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        半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀與前景

        2021-11-15 來源:
        25244

        關(guān)鍵詞: 半導(dǎo)體

        近年來,隨著5G、汽車電子、人工智能、工業(yè)物聯(lián)網(wǎng)等新興產(chǎn)業(yè)的發(fā)展,半導(dǎo)體需求迅猛增長。全球半導(dǎo)體貿(mào)易統(tǒng)計協(xié)會(WSTS)數(shù)據(jù)顯示,2020年全球半導(dǎo)體銷售額達(dá)4403.9億美元,同比增長6.8%,以存儲器和專用芯片為代表的半導(dǎo)體產(chǎn)品開始進入繁榮周期。

        半導(dǎo)體專用設(shè)備市場與半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)景氣狀況緊密相關(guān),其中芯片制造設(shè)備是半導(dǎo)體專用設(shè)備行業(yè)需求最大的領(lǐng)域,下游新興產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展是半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)的最大驅(qū)動力。

        芯片的制造分工

         

        2020年全球半導(dǎo)體設(shè)備銷售額約711億美元,同比增長19.2%。其中,晶圓制造設(shè)備612億美元,占比86.1%,測試設(shè)備60.1億美元,占比8.5%,封裝設(shè)備38.5億美元,占比5.4%

        2020年全球半導(dǎo)體設(shè)備銷售額按類型占比(單位:(億美元,%

         

        資料來源:SEMI

        從營收看,全球前十大半導(dǎo)體設(shè)備公司絕大多數(shù)是美、日企業(yè),市場集中度高,2020年行業(yè)CR5占比66%CR10占比77%,全球半導(dǎo)體設(shè)備競爭格局呈現(xiàn)高度集中狀態(tài)。

        國內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)起步較晚,總體營業(yè)規(guī)模上與海外巨頭差距較大,但近年來國內(nèi)企業(yè)不斷加大投入,在技術(shù)上不斷做出關(guān)鍵性的突破,打破了許多領(lǐng)域的空白,部分細(xì)分市場已開始實現(xiàn)國產(chǎn)替代。例如,中微刻蝕機研發(fā)已到達(dá)5nm的技術(shù)節(jié)點;北方華創(chuàng)和拓荊的薄膜沉積設(shè)備已達(dá)到14/28nm的技術(shù)節(jié)點;至純科技的清洗設(shè)備打入了中芯國際、華虹等企業(yè)的供應(yīng)鏈;華峰測控的測試機打入了日月光、意法半導(dǎo)體等國際封測龍頭的供應(yīng)鏈。

        華強電子產(chǎn)業(yè)研究所編寫了《半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀與前景展望》報告,報告以半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)為主題展開研究,分析了半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)的發(fā)展現(xiàn)狀、驅(qū)動因素、主要細(xì)分市場發(fā)展情況,以及國內(nèi)外技術(shù)差距等,對行業(yè)發(fā)展前景作出展望參考。

         

         

         

        目錄

        研究背景

        一、半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀分析

        1.1 新舊應(yīng)用需求推動,半導(dǎo)體芯片規(guī)模不斷擴大

        1.2 為應(yīng)對產(chǎn)能缺口,晶圓廠積極擴產(chǎn)

        1.3 行業(yè)景氣度高企,產(chǎn)業(yè)資本開支大幅上修

        1.4 全球半導(dǎo)體設(shè)備市場規(guī)模

        二、芯片制造流程梳理

        三、半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)競爭格局

        3.1 全球半導(dǎo)體設(shè)備集中度高,國外企業(yè)占據(jù)市場主導(dǎo)地位

        3.2 部分領(lǐng)域國內(nèi)廠商打破空白,技術(shù)不斷追趕

        3.3 國內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備廠商產(chǎn)品線逐步完善,國產(chǎn)化率逐漸提升

        四、半導(dǎo)體設(shè)備整體市場分布

        五、半導(dǎo)體設(shè)備細(xì)分市場發(fā)展分析

        5.1 光刻設(shè)備

        5.2 刻蝕設(shè)備

        5.3 薄膜沉積設(shè)備

        5.4 清洗設(shè)備

        5.5 離子注入設(shè)備

        5.6 熱處理設(shè)備

        5.7 CMP設(shè)備

        5.8 去膠設(shè)備

        六、國內(nèi)外企業(yè)案例分析

        6.1 國外案例

        6.2 國內(nèi)案例

        七、行業(yè)發(fā)展前景展望

         




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