眾所周知，美國為了鎖死中國的邏輯芯片制程在14nm，聯手尼康、佳能，ASML三家光刻機巨頭，一起對先進光刻機進行禁運。
而能夠生產14nm及以下芯片的光刻機有兩種，一種是EUV光刻機，一種是高端的DUV光刻機，也就是浸潤式光刻機（ArFi光刻機）。
由于DUV光刻機中的浸潤式光刻機分很多種型號，有些只能生產14nm以上工藝，有些能夠生產最高7nm工藝。所以浸潤式光刻機，究竟能不能賣給中國，哪些能夠賣，哪些不能賣，就成為了大家最關注的問題。
特別是中芯京城項目，因瓶頸機臺未交付，而造成投產延期更是牽動大家的心，因為很明顯這個瓶頸機臺，很可能就是光刻機。
而近日，荷蘭光刻機大廠ASML通過官網發布了《關于額外出口管制的聲明》，其中對光刻機出口進行了補充說明，算是塵埃落定了。
ASML表示，出口管制并不涉及所有浸潤式光刻機，只涉及到“最先進”的光刻機。什么是最先進的浸潤式光刻機？ASML認為是TWINSCAN NXT：2000i及之后的浸沒式光刻系統。
滋潤式光刻機到底有多少種？ASML目前在售的主要有三種，按照其先進程度，分別為TWINSCAN NXT:1980Di，TWINSCAN NXT:2000i ，TWINSCAN NXT:2050i，越后面的越先進。
那么就很明顯了，這三種高端的DUV光刻機中，只能出口一種浸潤式光刻機，那就是TWINSCAN NXT:1980Di，也就是相對最落后的那一種，其它兩種，由于太先進了，所以是不能出口到中國來的，至于比浸潤式光刻機更先進的EUV就更加不要說了，不可能出口了。
那么問題來了， 這一臺TWINSCAN NXT:1980Di光刻機，能生產多少納米的芯片？
如上圖所示，這是ASML官網上關于這一臺TWINSCAN NXT:1980Di的介紹，其中在分辨率方面，寫到是大于等于38nm。
那么意思就是只能生產38nm工藝的芯片么？其實并不是的，是指一次曝光的分辨率，事實上光刻機是可以進行多次曝光的。理論上依然可以達到7nm，只是步驟更為復雜，成本更高，良率可能也會有損失，晶圓廠用這一臺光刻機，大多是生產14nm及以上工藝的芯片，很少去生產14nm以下的工藝，因為良率低，成本高，沒什么競爭力。
但可以肯定的是，用這一臺TWINSCAN NXT:1980Di光刻機，生產28nm、14nm是不成問題的，國內成熟工藝的擴產，接下來不會有什么影響，只是在先進工藝方面，還是有困難，這也算是壞消息中的一個好消息？
