2023年全球掩膜版市場規(guī)模及下游應用情況預測分析（圖）
2023-09-04
來源：中商產業(yè)研究院
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關鍵詞： 掩膜版
中商情報網訊：光掩膜版一般指光掩膜基版。 光掩膜基版是制作微細光掩膜圖形的理想感光性空白板，通過光刻制版工藝可以獲得所需光掩膜版。
市場規(guī)模
掩膜版是微電子制造過程中的圖形轉移母版，是平板顯示、半導體、觸控、電路板等行業(yè)生產制造過程中重要的關鍵材料，其中，半導體是掩膜版最主要的應用領域，占比60%。中商產業(yè)研究院發(fā)布的《2024-2029全球及中國光掩膜板行業(yè)研究及十四五規(guī)劃分析報告》顯示，2018-2022年，全球半導體掩膜版市場規(guī)模由40.41億美元增長至49億美元，復合年均增長率達4.9%。中商產業(yè)研究院分析師預測，2023年半導體掩膜版市場規(guī)模將繼續(xù)增長至50.98億美元。
數據來源：SEMI、中商產業(yè)研究院整理
下游應用情況
掩膜版在半導體、顯示面板、觸摸屏、電路板等領域生產均有使用。從下游應用來看，掩膜版IC和平板顯示領域使用量最多，其中半導體占據60%的份額，LCD占比23%份額，OLED占比5%，PCB占比2%。
數據來源：中商產業(yè)研究院整理
