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        光刻機再度刷新紀錄,但業績才是ASML最令人頭疼的事

        2024-06-06 來源:賢集網
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        關鍵詞: ASML 晶圓 芯片

        ASML 在 imec 的 ITF World 2024 大會上宣布,其首臺高數值孔徑機器現已創下新的芯片制造密度記錄,超越了兩個月前創下的記錄。ASML 前總裁兼首席技術官 Martin van den Brink 目前在該公司擔任顧問,他還提議該公司可以開發超數值孔徑(hyper NA)芯片制造工具,以進一步擴大其高數值孔徑機器的規模,并分享了潛在的路線圖。

        他概述了一項計劃,通過大幅提高未來 ASML 工具的速度到每小時 400 到 500 個晶圓 (wph),這是目前 200 wph 峰值的兩倍多,從而降低 EUV 芯片制造成本。他還為 ASML 未來的 EUV 工具系列提出了一種模塊化統一設計。

        Van der Brink 表示,經過進一步調整,ASML 現已使用其開創性的高數值孔徑 EUV 機器打印出 8nm 密集線條,這是專為生產環境設計的機器的密度記錄。這打破了該公司在 4 月初創下的記錄,當時該公司宣布已使用位于荷蘭費爾德霍芬 ASML 總部與 imec 聯合實驗室的開創性高 NA 機器打印出 10nm 密集線條。



        從長遠來看,ASML 的標準低 NA EUV 機器可以打印 13.5nm 的臨界尺寸(CD——可以打印的最小特征),而新的High NA EXE:5200 EUV 工具旨在通過打印 8nm 特征來制造更小的晶體管。因此,ASML 現在已經證明其機器可以滿足其基本規格。

        “今天,我們已經取得了進展,能夠顯示創紀錄的 8nm 成像,在整個視野范圍內得到校正,但也有一定程度的重疊,”Van der Brink 說道,“順便說一句,這不是完美的數據,但它只是為了向你展示進展。今天,我們有信心,憑借High NA 技術,我們將能夠在未來的時間里跨越到終點線。”

        這一里程碑代表了 10 多年的研發和數十億歐元投資的成果,但仍有更多工作要做,以優化系統并為主要芯片制造商的大規模生產做好準備。這項工作已經在荷蘭開始,而英特爾是已知唯一一家已經完全組裝High NA 系統的芯片制造商,它正緊隨 ASML 的腳步,在俄勒岡州的 D1X 工廠投入運營自己的機器。英特爾將首先將其 EXE:5200 High NA 機器用于研發目的,然后將其投入生產 14A 節點。

        Van der Brink 還再次提出了一種新的超數值孔徑 EUV 機器,但尚未對該機器做出最終決定——ASML 似乎正在衡量行業興趣,但只有時間才能證明它是否會實現。


        首臺High NA EUV光刻機已完成組裝

        4月19日,英特爾宣布,首臺阿斯麥制造的High NA EUV光刻機完成組裝。此外,第二臺High NA EUV光刻機也被秘密發貨,目前還不得而知接收方是誰。

        EUV光刻機是生產芯片的必要設備,而芯片代工坐擁全球第一的臺積電,卻錯失了最新研制出的生產設備。

        而英特爾即便在工藝上落后于臺積電,但有了新一代EUV光刻機的支持,基本就成了臺積電的直接競爭對手。而且是一位“全能型”對手。


        臺積電或放棄購買High-NA EUV光刻機

        近日,臺積電更是表示,其A16(也可以認為是1.6nm)工藝,將在2026年量產,而所謂的A16工藝,實際上是2nm工藝的升級版,臺積電2025年實現2nm,2026年實現A16。

        同時臺積電還著重提出,A16制程工藝并不需要下一代High-NA EUV光刻系統的參與。

        為何會著重提出這一點,原因在于目前業界有一種聲音,那就是進入2nm工藝,必須用到ASML最新的光刻機,也就是High-NA EUV光刻機。

        這種High-NA EUV光刻機對應之前的EUV光刻機,最大的區別的就是數值孔徑的變化,之前的EUV光刻機數值孔徑是0.33,而High-NA EUV提供了0.55數值孔徑。

        ASML稱,之前的標準EUV光刻機可以打印13.5nm的線寬,而High-NA EUV光刻機可打印8nm線寬,所以生產2nm芯片時,效果更好。



        另外ASML還稱,新EUV光刻機處理晶圓的速度提升了100%至150%,從原來的每小時200片晶圓,提升到每小時400至500片晶圓。

        不過,這樣的光刻機好是好,價格可不便宜,設備的價格約在3.85億美元(約28億元人民幣)起步。

        臺積電目前擁有標準的0.33數值孔徑的光刻機上百臺,如果全部換成這種新的,成本高達400億美元,臺積電當然不想換,成本完全背不起啊。

        所以,臺積電的計劃是,不管你ASML怎么升級,反正我不變,我用舊的EUV光刻機,也要生產出2nm,甚至升級版A16(1.6nm)的芯片出來。

        這對于ASML而言,就有點麻煩了,一旦新EUV光刻機,得不到臺積電這樣的巨頭支持,那賣給誰呢?


        阿斯麥業績受到制裁影響而暴跌

        4月17日,阿斯麥發布2024年第一季度財報。第一財季公司營收和凈利潤環比均出現大幅下滑,新增訂單更是環比下降超60%,遠低于市場預期。

        中國香港的《南華早報》報道了一個新聞,說是研究人員表示,美國的出口管制,可能無意中導致中國在全球傳統芯片生產中占據主導地位。

        芯片行業似乎正在重新洗牌。而這一切的一切,其實都源于美國制裁。那這究竟是咋回事呢?

        話說芯片行業規模很大,我們可以一分為二來看,首先是手機芯片和AI芯片,都屬于先進制程芯片技術,這是中國之前被卡脖子的領域。除了之外,另一部分是成熟半導體技術,這部分被沒有被卡脖子。

        這幾年無論是先進制程芯片,還是成熟半導體,中國可以說是突飛猛進。我們先從先進制程芯片說起。

        眾所周知,美國不斷加碼對中國先進制程芯片的制裁,希望一舉摧毀中國的芯片產業。結果似乎沒有按照美國想要的劇本發展。制造先進制程芯片,得用光刻機,這就一定繞不過阿斯麥。

        而阿斯麥最近卻問題連連。問題的根源是不滿荷蘭對于美國的一再妥協,導致自己沒辦法為中國提供服務,而中國是全球第一大芯片市場,這就讓阿斯麥進退兩難。



        所以阿斯麥想離開荷蘭,去其他地方找找機會。

        而放眼全球,現在只有中國在擴大產能,購買光刻機,而其他地方則相對低迷,購買光刻機很謹慎。就拿今年一季度來說,阿斯麥來自中國大陸的營收占比達到49%。

        阿斯麥首席財務官達森就表示:中國客戶約占公司積壓訂單的20%。中國的需求很強勁。其產能增加是合理的,并且符合本世紀后半段的全球需求。

        而中國芯片又被制裁,這就導致阿斯麥今年第一季的營收非常不理想,從去年四季度的92億歐元,跌到了只剩36億歐元,而之前的預期是至少要超過50億,隨著阿斯麥一季度財報的披露,阿斯麥股價大跌,拖累歐美芯片股齊跌。

        阿斯麥CEO溫寧克就表示:目前,沒有什么能阻止我們為中國客戶已經購買的產品提供服務。同時他們也盡可能想辦法抵制美國額外施加制裁措施。



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