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        TEL社長(zhǎng)親自赴臺(tái)積電為2nm竊密案道歉,嫌疑人或被判14年有期徒刑

        2025-09-12 來(lái)源:愛(ài)集微
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        關(guān)鍵詞: Tokyo Electron前員工竊密案 臺(tái)積電2nm技術(shù)被竊 河合利樹(shù)道歉 臺(tái)積電竊密案

        Tokyo Electron(TEL)前員工涉及竊取臺(tái)積電2nm技術(shù)案,9月10日傳出,TEL社長(zhǎng)兼CEO河合利樹(shù)赴新竹與臺(tái)積電董事長(zhǎng)暨總裁魏哲家會(huì)面,針對(duì)竊密案親自道歉,并提出后續(xù)處理方向。

        SEMICON Taiwan 2025國(guó)際半導(dǎo)體展近期于南港展覽館盛大登場(chǎng),焦點(diǎn)意外落在河合利樹(shù)身上。

        據(jù)了解,傳出河合利樹(shù)赴新竹與魏哲家會(huì)面,為前員工涉及2nm技術(shù)泄露案親自道歉,并提出后續(xù)處理方向。熟知內(nèi)情人士透露,河合利樹(shù)每年參與中國(guó)臺(tái)灣半導(dǎo)體展,固定拜訪魏哲家。

        今年因泄密案敏感,河合利樹(shù)選擇低調(diào)不公開(kāi)露面,避免尷尬。雖然兩人密會(huì)細(xì)節(jié)并未對(duì)外說(shuō)明,但被視為T(mén)EL對(duì)此事件的正式表態(tài),也成為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)關(guān)注焦點(diǎn)。

        9月10日,中國(guó)臺(tái)灣經(jīng)濟(jì)部門(mén)負(fù)責(zé)人龔明鑫拒絕就針對(duì)臺(tái)積電2nm制程技術(shù)的商業(yè)機(jī)密竊取案發(fā)表評(píng)論,因擔(dān)心此案可能影響中國(guó)臺(tái)灣和日本的關(guān)系。龔明鑫表示,調(diào)查應(yīng)遵循證據(jù),并強(qiáng)調(diào)經(jīng)濟(jì)部門(mén)尊重司法部門(mén)的調(diào)查結(jié)果。

        據(jù)稱(chēng),一名加入TEL的前臺(tái)積電工程師,在試圖提升這家日本半導(dǎo)體設(shè)備制造商正在開(kāi)發(fā)的2nm蝕刻機(jī)性能時(shí),得到了兩名臺(tái)積電員工的幫助,涉嫌竊取臺(tái)積電的商業(yè)機(jī)密。三人均因涉嫌泄密事件被起訴,并被公司解雇。

        此案令人意外,因?yàn)樯婕暗氖且患胰毡竟镜膯T工。

        中國(guó)臺(tái)灣高等檢察院目前正在努力證實(shí)這些工程師是單獨(dú)行動(dòng),還是受日本公司指使。如果涉嫌泄密的幕后黑手不是TEL及其中國(guó)臺(tái)灣子公司,那么將為這家日本公司洗脫罪名。

        由于臺(tái)積電的2nm技術(shù)代表著全球最先進(jìn)的半導(dǎo)體工藝,該案已根據(jù)中國(guó)臺(tái)灣安全法案提起公訴。如果工業(yè)間諜罪名成立,三名嫌疑人可能面臨嚴(yán)厲的監(jiān)禁。

        外界猜測(cè)了這名TEL工程師涉嫌竊取臺(tái)積電2nm制程技術(shù)數(shù)據(jù)的動(dòng)機(jī)。有報(bào)道稱(chēng),該工程師在TEL面臨業(yè)績(jī)壓力,早在2023年8月就向仍在臺(tái)積電工作的前同事尋求幫助。據(jù)稱(chēng),其目的是獲取關(guān)鍵數(shù)據(jù),以使得TEL的設(shè)備能夠通過(guò)臺(tái)積電的驗(yàn)證,從而促進(jìn)交易和采購(gòu)。

        臺(tái)積電發(fā)現(xiàn)違規(guī)行為,并于2025年7月8日向中國(guó)臺(tái)灣檢察機(jī)關(guān)和調(diào)查人員報(bào)告了涉嫌泄密事件,案件由此曝光。調(diào)查局立即展開(kāi)了兩輪搜查和訊問(wèn)。中國(guó)臺(tái)灣當(dāng)局認(rèn)定此案嚴(yán)重威脅地區(qū)安全和行業(yè)競(jìng)爭(zhēng),并已獲得法院批準(zhǔn)拘留嫌疑人。檢察機(jī)關(guān)正在尋求對(duì)被告判處7至14年有期徒刑。

        近年來(lái),中國(guó)臺(tái)灣高科技產(chǎn)業(yè)屢屢遭遇來(lái)自其他地區(qū)的競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手挖角高級(jí)研發(fā)人才、竊取核心產(chǎn)業(yè)技術(shù)等事件,嚴(yán)重影響了中國(guó)臺(tái)灣的高科技發(fā)展和競(jìng)爭(zhēng)力。鑒于《商業(yè)機(jī)密法》的不足,中國(guó)臺(tái)灣安全法案新增了保護(hù)措施,明確懲處任何為其他國(guó)家/地區(qū)或外國(guó)機(jī)構(gòu)竊取中國(guó)臺(tái)灣核心技術(shù)的行為。

        2025年3月31日,中國(guó)臺(tái)灣宣布修訂核心技術(shù)清單,共計(jì)32項(xiàng),其中包括14nm以下集成電路制程及相關(guān)的關(guān)鍵氣體、化學(xué)品和設(shè)備技術(shù)。用于人工智能(AI)計(jì)算的高性能(HPC)芯片設(shè)計(jì)技術(shù)也被納入清單。被判犯有經(jīng)濟(jì)間諜罪的違法者將面臨5至12年的監(jiān)禁,并處以500萬(wàn)元新臺(tái)幣(16.5萬(wàn)美元)至1億元新臺(tái)幣的罰款。(校對(duì)/趙月)




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