2nm工藝志在必得 日本三大EUV光刻膠巨頭巨資擴(kuò)產(chǎn)

11月3日消息，EUV工藝是5nm節(jié)點(diǎn)之后無(wú)法繞過(guò)的先進(jìn)工藝，EUV光刻機(jī)只有荷蘭ASML能產(chǎn)，但日本在EUV光刻膠領(lǐng)域很有優(yōu)勢(shì)，針對(duì)2nm及以下節(jié)點(diǎn)，日本三大化工巨頭都在積極擴(kuò)產(chǎn)。

日本半導(dǎo)體材料廠東京應(yīng)化工業(yè)（Tokyo Ohka Kogyo）日前宣布，將在韓國(guó)平澤投資200億日元，約合1.3億美元建設(shè)光刻膠工廠，預(yù)計(jì)2030年正式投產(chǎn)。

平澤是三星、SK海力士等韓國(guó)半導(dǎo)體公司的重要生產(chǎn)基地，該工廠投產(chǎn)后應(yīng)化工業(yè)在韓國(guó)的產(chǎn)能將翻三四倍，更好地滿足客戶需求。

此外，應(yīng)化工業(yè)還會(huì)在韓國(guó)再投資120億日元建設(shè)高純度化學(xué)廠，同樣會(huì)應(yīng)用先進(jìn)半導(dǎo)體工藝，此舉被外界視為日本廠商積極擴(kuò)產(chǎn)，提前部署2nm及更先進(jìn)工藝的需求。

同樣是EUV光刻膠巨頭的JSR公司也會(huì)在韓國(guó)投資建設(shè)MOR型光刻膠工廠，而且明年底就會(huì)量產(chǎn)。

另一家百年老店Adeka阿德卡也將在日本投資擴(kuò)產(chǎn)，花費(fèi)32億日元在日本建設(shè)MOR型光刻膠工廠，預(yù)計(jì)2028年4月份量產(chǎn)。

MOR型光刻膠以金屬氧化物為基礎(chǔ)，主要是為EUV光刻工藝而研發(fā)的，國(guó)內(nèi)也在積極建設(shè)MOR光刻膠研發(fā)及生產(chǎn)線。

不過(guò)在半導(dǎo)體材料，尤其是光刻膠方面，日本公司長(zhǎng)期占據(jù)世界91%以上的份額，雖然本土?xí)簳r(shí)沒(méi)有2nm工藝芯片廠，但他們積極布局海外，對(duì)2nm及以下的先進(jìn)工藝一樣志在必得。