南大光電：ArF 光刻膠在多個技術(shù)節(jié)點同時認證，尚未涉及 14nm 技術(shù)節(jié)點

1 月 7 日，南大光電在投資者互動平臺表示，目前 ArF 光刻膠在多個技術(shù)節(jié)點同時認證，尚未涉及 14nm 技術(shù)節(jié)點。

南大光電還表示，目前公司 MO 源和電子特氣產(chǎn)品訂單處于飽和狀態(tài)。ArF 光刻膠可以用于 90nm-14nm 技術(shù)節(jié)點的集成電路制造工藝。公司目前研發(fā)的產(chǎn)品包含干式光刻膠和浸沒式光刻膠。

MO 源方面，公司除了在 MO 源 2.0 研發(fā)方面取得進展外，在高純、低硅低氧三甲基鋁方面加大研發(fā)力度，也取得了關(guān)鍵性的進展，為 MO 源業(yè)務(wù)從 LED 向 IC、新能源行業(yè)的升級轉(zhuǎn)型奠定基礎(chǔ)。前驅(qū)體方面，除了有客制產(chǎn)品的研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化外，還要將去年從杜邦集團買入的硅前驅(qū)體專利進行研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化，目前進展順利。

電子特氣方面，最新升級的超高純砷烷產(chǎn)品品質(zhì)在下游客戶的測試中已超過目前國際先進同行的技術(shù)水平，超高純磷烷產(chǎn)品進入國際一流制程的芯片企業(yè)，標志著公司氫類電子特氣已躍居世界前列。混氣方面的研發(fā)進展也比較好，正在積極應(yīng)對新能源產(chǎn)業(yè)和半導(dǎo)體行業(yè)升級需求。

據(jù)悉，光刻膠業(yè)務(wù)品控設(shè)備方面，南大光電購買了一些檢測設(shè)備，包括光刻機，也用于檢測光刻膠，屬于光刻性能的檢測，這是質(zhì)量管控的一部分。對于其他的像純度、顆粒度檢測這塊，南大光電做的是特種電子材料，我們過去已經(jīng)有很深的技術(shù)基礎(chǔ)。人員配備方面，為了更好地與客戶溝通，我們聘請了具備豐富經(jīng)驗的光刻工程師，來管理光刻膠的質(zhì)量控制部分。光刻膠原材料方面，我們南大光電的強項就是做合成，所以具備合成單體的能力。部分單體在國內(nèi)一些企業(yè)已經(jīng)產(chǎn)業(yè)化了，不屬于卡脖子的材料，我們直接購買國內(nèi)的；對于一些特殊的、高技術(shù)含量的關(guān)鍵單體，由我們自己設(shè)計、合成制備。所以可以說，制備光刻膠的單體都已經(jīng)實現(xiàn)了本土化。